The Diffusion Process of Metastable Carrieres in Bismuth

González de Sande, Juan Carlos; Sanchez Balmaseda, Margarita y Guerra Perez, Jose Manuel (1995). The Diffusion Process of Metastable Carrieres in Bismuth. "Journal of Applied Physics", v. 77 (n. 12); pp. 6358-6360. ISSN 0021-8979. https://doi.org/10.1063/1.359107.

Descripción

Título: The Diffusion Process of Metastable Carrieres in Bismuth
Autor/es:
  • González de Sande, Juan Carlos
  • Sanchez Balmaseda, Margarita
  • Guerra Perez, Jose Manuel
Tipo de Documento: Artículo
Título de Revista/Publicación: Journal of Applied Physics
Fecha: Junio 1995
Volumen: 77
Materias:
Escuela: E.U.I.T. Telecomunicación (UPM) [antigua denominación]
Departamento: Ingeniería de Circuitos y Sistemas [hasta 2014]
Licencias Creative Commons: Reconocimiento - Sin obra derivada - No comercial

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Resumen

The diffusion process of electrons and holes which have been pumped into a metastable band in bismuth films by a 1.064‐μm laser pulse is considered in the calculation of the induced thermal gradient. The fit between the temporal evolution of this calculated thermal gradient and that of the thermoelectric response of films to the laser excitation allows us to estimate an upper limit of the ambipolar diffusion coefficient of metastable carriers

Más información

ID de Registro: 10124
Identificador DC: http://oa.upm.es/10124/
Identificador OAI: oai:oa.upm.es:10124
Identificador DOI: 10.1063/1.359107
URL Oficial: http://jap.aip.org/resource/1/japiau/v77/i12/p6358_s1?isAuthorized=no
Depositado por: Memoria Investigacion
Depositado el: 23 Ene 2012 12:00
Ultima Modificación: 20 Abr 2016 18:22
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