Optical in situ monitoring of hydrogen desorption from Ge(100) surfaces

Barrigón Montañés, Enrique; Brückner, Sebastian; Supplie, Oliver; Kleinschmidt, Peter; Rey-Stolle Prado, Ignacio y Hannappel, Thomas (2013). Optical in situ monitoring of hydrogen desorption from Ge(100) surfaces. "Applied Physics Letters", v. 102 (n. 11); pp.. ISSN 0003-6951. https://doi.org/10.1063/1.4798248.

Descripción

Título: Optical in situ monitoring of hydrogen desorption from Ge(100) surfaces
Autor/es:
  • Barrigón Montañés, Enrique
  • Brückner, Sebastian
  • Supplie, Oliver
  • Kleinschmidt, Peter
  • Rey-Stolle Prado, Ignacio
  • Hannappel, Thomas
Tipo de Documento: Artículo
Título de Revista/Publicación: Applied Physics Letters
Fecha: Marzo 2013
Volumen: 102
Materias:
Escuela: Instituto de Energía Solar (IES) (UPM)
Departamento: Electrónica Física
Licencias Creative Commons: Reconocimiento - Sin obra derivada - No comercial

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Resumen

Molecular hydrogen strongly interacts with vicinal Ge(100) surfaces during preparation in a metal organic vapor phase epitaxy reactor. According to X-ray photoemission spectroscopy and Fourier-transform infrared spectroscopy results, we identify two characteristic reflection anisotropy (RA) spectra for H-free and monohydride-terminated vicinal Ge(100) surfaces. RAS allows in situ monitoring of the surface termination and enables spectroscopic hydrogen kinetic desorption studies on the Ge(100) surface. Comparison of evaluated values for the activation energy and the pre-exponential factor of H desorption evaluated at different photon energies reflects that H unevenly affects the shape of the RA spectrum.

Más información

ID de Registro: 26299
Identificador DC: http://oa.upm.es/26299/
Identificador OAI: oai:oa.upm.es:26299
Identificador DOI: 10.1063/1.4798248
URL Oficial: http://scitation.aip.org/content/aip/journal/apl/102/11/10.1063/1.4798248
Depositado por: Memoria Investigacion
Depositado el: 25 May 2014 11:49
Ultima Modificación: 22 Sep 2014 11:40
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