Magnetic properties of sputtered permalloy/molibdenum multilayers

Romera Rabasa, Miguel; Maicas Ramos, Marco Cesar; Ranchal Sánchez, Rocío; Ciudad del Río Pérez, David; López, E. y Sánchez Sánchez, Pedro (2008). Magnetic properties of sputtered permalloy/molibdenum multilayers. En: "IEEE International Magnetics Conference. INTERMAG 2008", 04/05/2008-08/05/2008, Madrid, España.

Descripción

Título: Magnetic properties of sputtered permalloy/molibdenum multilayers
Autor/es:
  • Romera Rabasa, Miguel
  • Maicas Ramos, Marco Cesar
  • Ranchal Sánchez, Rocío
  • Ciudad del Río Pérez, David
  • López, E.
  • Sánchez Sánchez, Pedro
Tipo de Documento: Ponencia en Congreso o Jornada (Póster)
Título del Evento: IEEE International Magnetics Conference. INTERMAG 2008
Fechas del Evento: 04/05/2008-08/05/2008
Lugar del Evento: Madrid, España
Título del Libro: Selected Papers From the International Magnetics Conference
Fecha: 2008
Materias:
Escuela: E.T.S.I. Telecomunicación (UPM)
Departamento: Física Aplicada a las Tecnologías de la Información [hasta 2014]
Licencias Creative Commons: Reconocimiento - Sin obra derivada - No comercial

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Resumen

In this work we study the magnetic properties of Permalloy (Py: Fe20Ni80) films grown as multilayers with thin Molibdenum (Mo) spacers, in order to optimize it for sensor applications. Properties like permabillity or linearity of the loops can be controlled by growing Py as a multilayer with alternating perpendicular anisotropies [2]. However for thicknesses over 180 nm sputtered Py films develop perpendicular anisotropy (induced by the columnar morphology of the sputtered films) and the magnetic properties degrade notably [3]. Both coercive and saturating fields are nearly 10 times bigger than those measured for thinner films. Nevertheless, we found that it is possible to obtain low coercivity and high permability if thick Py films are grown as multilayers with a non-magnetic spacer between magnetic layers. In addition, we studied the effect of the layers thicknesses in the coercive field which is minimum for a Py thicknesses about 30 nm.

Más información

ID de Registro: 3946
Identificador DC: http://oa.upm.es/3946/
Identificador OAI: oai:oa.upm.es:3946
URL Oficial: http://www.intermagconference.com/intermag2008/index.htm
Depositado por: Memoria Investigacion
Depositado el: 10 Sep 2010 08:38
Ultima Modificación: 20 Abr 2016 13:21
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