Design and manufacturing of integrated optical devices in visible spectrum = Diseño y fabricación de dispositivos integrados de guías de onda en espectro visible

Gordo Quiroga, Fernando José (2016). Design and manufacturing of integrated optical devices in visible spectrum = Diseño y fabricación de dispositivos integrados de guías de onda en espectro visible. Proyecto Fin de Carrera / Trabajo Fin de Grado, E.T.S.I. Telecomunicación (UPM), Madrid.

Descripción

Título: Design and manufacturing of integrated optical devices in visible spectrum = Diseño y fabricación de dispositivos integrados de guías de onda en espectro visible
Autor/es:
  • Gordo Quiroga, Fernando José
Director/es:
  • Caño García, Manuel
Tipo de Documento: Proyecto Fin de Carrera/Grado
Grado: Grado en Ingeniería de Tecnologías y Servicios de Telecomunicación
Fecha: 2016
Materias:
Palabras Clave Informales: photonic integrated circuit, optical waveguide, photolithography, SU-8.
Escuela: E.T.S.I. Telecomunicación (UPM)
Departamento: Tecnología Fotónica y Bioingeniería
Licencias Creative Commons: Reconocimiento - Sin obra derivada - No comercial

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Resumen

In this project we aim at addressing the study of the full manufacturing process of a photonic integrated circuit, from the initial stage of components design to the tests required to ensure its proper functioning. Its most innovative aspect compared to the existing technology is that the wavelength used belongs to the visible light spectrum. Thus the dimensions of the waveguides have to be significantly reduced. For this reason, the analysis of new manufacturing protocols, using new materials and new techniques, is required. In addition, the current methods will be also modified in order to be optimized for our scenario. In a first step, design and simulation of the desired devices were conducted so that a set of different configurations can be approached. After that, the integration of the maximum number of these configurations was settled in a chromium mask design. This mask was then used in the photolithography process to harden SU-8 photoresist over a silicon substrate. Good fabrication results were obtained, being able to reach waveguides structures of 0.5 μm thick and 1.5 μm wide. The final chips were characterized in a dark room with two different laser input and proper light guidance was demonstrated as well as output switching.

Más información

ID de Registro: 43402
Identificador DC: http://oa.upm.es/43402/
Identificador OAI: oai:oa.upm.es:43402
Depositado por: Biblioteca ETSI Telecomunicación
Depositado el: 28 Sep 2016 08:26
Ultima Modificación: 28 Sep 2016 08:26
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