Thermal stability of copper nitride thin films: The role of nitrogen migration

Gonzalez Arrabal, Raquel; Gordillo, N.; Martin Gonzalez, M.S.; Ruiz Bustos, R. y Argullo Lopez, Fernando (2010). Thermal stability of copper nitride thin films: The role of nitrogen migration. "Journal of Applied Physics", v. 107 (n. 10); pp.. ISSN 0021-8979. https://doi.org/10.1063/1.3369450.

Descripción

Título: Thermal stability of copper nitride thin films: The role of nitrogen migration
Autor/es:
  • Gonzalez Arrabal, Raquel
  • Gordillo, N.
  • Martin Gonzalez, M.S.
  • Ruiz Bustos, R.
  • Argullo Lopez, Fernando
Tipo de Documento: Artículo
Título de Revista/Publicación: Journal of Applied Physics
Fecha: Mayo 2010
Volumen: 107
Materias:
Escuela: Otros Centros UPM
Departamento: Ingeniería Nuclear [hasta 2014]
Licencias Creative Commons: Reconocimiento - Sin obra derivada - No comercial

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Resumen

The atomic composition, structural, morphological, and optical properties of N-rich copper nitride thin films have been investigated prior to and after annealing them in vacuum at temperatures up to 300 °C. Films were characterized by means of ion-beam analysis (IBMA), X-ray diffraction (XRD), atomic force microscopy (AFM), and spectroscopic ellipsometry techniques (SE). The data reveal that even when the total (integrated over the whole thickness) atomic composition of the films remains constant, nitrogen starts to migrate from the bulk to the film surface, without out-diffusing, at temperatures as low as 100 °C. This migration leads to two chemical phases with different atomic concentration of nitrogen, lattice parameters, and crystallographic orientation but with the same crystal structure. XRD experimental and Rietveld refined data seem to confirm that nitrogen excess accommodates in interstitial locations within the anti-ReO3 crystal lattice forming a solid solution. The influence of nitrogen migration on the optical (electronic) properties of the films will be discussed

Más información

ID de Registro: 6776
Identificador DC: http://oa.upm.es/6776/
Identificador OAI: oai:oa.upm.es:6776
Identificador DOI: 10.1063/1.3369450
URL Oficial: http://jap.aip.org/resource/1/japiau/v107/i10/p103513_s1?isAuthorized=no
Depositado por: Memoria Investigacion
Depositado el: 04 May 2011 10:45
Ultima Modificación: 20 Abr 2016 15:56
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