Abstract
A lo largo de los últimos años, con los diferentes avances tecnológicos y una mayor accesibilidad a todo tipo de estudios, la ciencia de materiales, sobre todo el área orientada a materiales avanzados y nanomateriales, ha tenido un gran auge de la investigación y la experimentación. Estas líneas de desarrollo tienen como uno de sus objetivos la creación de materiales con propiedades específicas, lo que se consigue mediante técnicas y procesos de combinación de materiales. Es aquí donde entra la implantación iónica. La implantación iónica es una técnica que consiste en la aceleración de iones de un elemento elegido, hasta una cierta energía, con la que penetrarán en un blanco, quedando así implantados en su interior, modificando el material y dotándolo de propiedades nuevas. Este proyecto se realiza dentro del área de la simulación de esta técnica y en él se llevará a cabo el análisis de cuatro casos diferentes de implantación: Oro de 1,5 MeV implantado en un sustrato de silicio. Oro de 4 MeV implantado en un sustrato de dióxido de silicio (SiO2). Iodo de 1 MeV implantado en un sustrato de zafiro (Al2O3). Níquel de 600 keV implantado en un sustrato de silicio. Las condiciones de estas implantaciones serán simuladas mediante dos programas diferentes, SRIM y Strata, que darán la información necesaria para posteriormente hacer una comparación con los datos experimentales obtenidos del Centro de Micro-Análisis de Materiales (CMAM) de la Universidad Autónoma de Madrid. Para el completo entendimiento de estos casos
