Low-thickness high-quality aluminum nitride films for super high frequency solidly mounted resonators

Iborra Grau, Enrique; Clement Lorenzo, Marta; Capilla Osorio, José; Olivares Roza, Jimena y Felmetsger, Valeriy (2012). Low-thickness high-quality aluminum nitride films for super high frequency solidly mounted resonators. "THIN SOLID FILMS", v. 520 (n. 7); pp. 3060-3063. ISSN 0040-6090. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2011.11.007.

Descripción

Título: Low-thickness high-quality aluminum nitride films for super high frequency solidly mounted resonators
Autor/es:
  • Iborra Grau, Enrique
  • Clement Lorenzo, Marta
  • Capilla Osorio, José
  • Olivares Roza, Jimena
  • Felmetsger, Valeriy
Tipo de Documento: Artículo
Título de Revista/Publicación: THIN SOLID FILMS
Fecha: Enero 2012
Volumen: 520
Materias:
Palabras Clave Informales: Piezoelectric AlN; Crystal quality; AC reactive sputtering; Two-step deposition; High frequency solidly mounted resonator; Electromechanical coupling factor; Quality factor
Escuela: E.T.S.I. Telecomunicación (UPM)
Departamento: Tecnología Electrónica [hasta 2014]
Licencias Creative Commons: Reconocimiento - Sin obra derivada - No comercial

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Resumen

We investigate the sputter growth of very thin aluminum nitride (AlN) films on iridium electrodes for electroacoustic devices operating in the super high frequency range. Superior crystal quality and low stress films with thicknesses as low as 160 nm are achieved after a radio frequency plasma treatment of the iridium electrode followed by a two-step alternating current reactive magnetron sputtering of an aluminum target, which promotes better conditions for the nucleation of well textured AlN films in the very first stages of growth. Solidly mounted resonators tuned around 8 GHz with effective electromechanical coupling factors of 5.8% and quality factors Q up to 900 are achieved.

Más información

ID de Registro: 15682
Identificador DC: http://oa.upm.es/15682/
Identificador OAI: oai:oa.upm.es:15682
Identificador DOI: 10.1016/j.tsf.2011.11.007
URL Oficial: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609011019754
Depositado por: Memoria Investigacion
Depositado el: 16 Jun 2013 11:29
Ultima Modificación: 21 Abr 2016 15:56
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