Tailoring the magnetic anisotropy and domain patterns of sputtered TbFeGa alloys

Ranchal Sánchez, Rocío; Fin, S.; Bisero, Diego y Aroca Hernández-Ros, Claudio (2014). Tailoring the magnetic anisotropy and domain patterns of sputtered TbFeGa alloys. "Journal of Alloys and Compounds", v. 582 ; pp. 839-843. ISSN 0925-8388. https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2013.08.066.

Descripción

Título: Tailoring the magnetic anisotropy and domain patterns of sputtered TbFeGa alloys
Autor/es:
  • Ranchal Sánchez, Rocío
  • Fin, S.
  • Bisero, Diego
  • Aroca Hernández-Ros, Claudio
Tipo de Documento: Artículo
Título de Revista/Publicación: Journal of Alloys and Compounds
Fecha: Enero 2014
Volumen: 582
Materias:
Palabras Clave Informales: Magnetic films and multilayers; Nanofabrications; Magnetic measurements; Domain structure
Escuela: E.T.S.I. Telecomunicación (UPM)
Departamento: Electrónica Física
Licencias Creative Commons: Reconocimiento - Sin obra derivada - No comercial

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Resumen

We report the magnetic anisotropy and domain configuration of cosputtered TbFeGa alloys. The layers were deposited from two targets with compositions TbFe2 and Fe3Ga, respectively. The structural and magnetic properties do not only depend on the composition but also on the growth conditions. Alloys with the same composition but deposited using a DC or a pulsed power source in the TbFe2 target exhibit a different magnetic anisotropy. The perpendicular magnetic anisotropy, the size and topology of domain patterns can be tailored by changing the evaporation parameters of TbFe2. The width of the stripe domain increases from 235 to 835 nm when using the DC source in the TbFe2. We correlate this effect with Tb enrichment of the TbxFe1−x phases present in the samples.

Más información

ID de Registro: 35885
Identificador DC: http://oa.upm.es/35885/
Identificador OAI: oai:oa.upm.es:35885
Identificador DOI: 10.1016/j.jallcom.2013.08.066
URL Oficial: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0925838813019269
Depositado por: Memoria Investigacion
Depositado el: 27 Jun 2015 10:10
Ultima Modificación: 27 Jun 2015 10:10
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